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  • 2021-12-07
  • 题量:15
  • 年级:高二
  • 类型:练习检测
  • 浏览:156

高二化学苏教版选修2 4专题综合检测练习卷

1、

以下是有关合金的叙述,其中正确的是(  )。

A.合金是由两种或两种以上的金属(或金属与非金属)组成的混合物
B.合金的硬度一般比纯金属的硬度高
C.合金的熔点一般比纯金属的熔点高
D.玻璃钢、合金钢和碳素钢都属于铁合金
  • 题型:1
  • 难度:中等
  • 人气:797
2、

下列物质不属于复合材料的是(  )。

A.碳化硅纤维 B.生物陶瓷
C.钢化玻璃 D.氮化硅陶瓷
  • 题型:1
  • 难度:较易
  • 人气:973
3、

汉代器物上的颜料“汉紫”至今尚没有发现其自然存在的记载。20世纪80年代科学家进行超导材料研究时,偶然发现其成分为紫色的硅酸铜钡(化学式:BaCuSi2Ox,Cu为+2价),下列有关“汉紫”的说法中不正确的是(  )。

A.用盐的形式表示:BaSiO3·CuSiO3
B.用氧化物形式表示:BaO·CuO·2SiO2
C.易溶于强酸、强碱
D.性质稳定,不易褪色
  • 题型:1
  • 难度:中等
  • 人气:1980
4、

以氮化硅(Si3N4)和氧化铝(Al2O3)为原料,采用高压烧结或热压工艺制备赛伦。赛伦的化学通式为Si6-xAlxOxN8-x,以耐高温、高强度、超硬度、耐磨损、抗腐蚀等性能为主要特征,因此,在冶金、机械、光学、医学等领域有重要应用。它属于(  )。

A.金属材料 B.有机高分子材料
C.新型无机非金属材料 D.无机高分子材料
  • 题型:1
  • 难度:较易
  • 人气:1397
5、

2009年10月6日,诺贝尔物理学奖授予“光纤之父”英国华裔科学家高锟以及两位美国科学家威拉德·博伊尔和乔治·史密斯。光导纤维的主要成分是二氧化硅,下列关于二氧化硅的说法正确的是(  )。

A.工业上用二氧化硅制取单质硅时,1 mol C理论上能置换出1 mol Si
B.6 g的二氧化硅中含有0.4NA个共价键
C.二氧化硅是H2SiO3的酸酐,因此能与碱反应,不能与任何酸反应
D.由于硅酸比碳酸弱,故二氧化硅不能与碳酸钠反应
  • 题型:1
  • 难度:中等
  • 人气:1255
6、

磷酸钙是陶瓷,也是一种复合材料,它可用于制人造骨骼,这是利用了这类材料的(  )。

A.耐高温的特性 B.电学特性 C.光学特性 D.生物功能
  • 题型:1
  • 难度:较易
  • 人气:1625
7、

下列关于工业生产的叙述中错误的是(  )。

A.制普通玻璃的主要原料是纯碱、石灰石、石英砂
B.工业上电解熔融的氯化钠来制取钠
C.将二氧化硫催化成三氧化硫后,在吸收塔内用水吸收制得浓硫酸
D.制造普通水泥的主要原料是黏土、石灰石
  • 题型:1
  • 难度:中等
  • 人气:2003
8、

工业上制备纯硅反应的热化学方程式如下:SiCl4(g)+2H2(g)Si(s)+4HCl(g)ΔH=+Q kJ·mol-1(Q>0)某温度、压强下,将一定量反应物通入密闭容器进行以上反应(此条件下为可逆反应),下列叙述正确的是(  )。

A.反应过程中,若增大压强能提高SiCl4的转化率
B.若反应开始时SiCl4为1 mol,则达到平衡时,吸收热量为Q kJ
C.反应至4 min时,若HCl浓度为0.12 mol·L-1,则H2的反应速率为0.03 mol·(L·min-1)
D.当反应吸收热量为0.025Q kJ时,生成的HCl通入100 mL 1 mol·L-1的NaOH溶液中恰好反应
  • 题型:1
  • 难度:中等
  • 人气:541
9、

青石棉(cricidolite)是世界卫生组织确认的一种致癌物质,是《鹿特丹公约》中受限制的46种化学品之一,青石棉的化学式为Na2Fe5Si8O22(OH)2,青石棉用稀硝酸溶液处理时,还原产物只有NO,下列说法不正确的是 (  )。

A.青石棉是一种易燃品且易溶于水
B.青石棉的化学组成用氧化物的形式可表示为Na2O·3FeO·Fe2O3·8SiO2·H2O
C.1 mol Na2Fe5Si8O22(OH)2与足量的硝酸作用,至少需消耗6 L 3 mol·L-1的硝酸
D.Na2Fe5Si8O22(OH)2能与氢氟酸作用
  • 题型:1
  • 难度:中等
  • 人气:785
10、

2006年11月在珠海举行的国际航展上,我国展示了许多高科技军工产品。在这些军工产品上,使用了一种新型的航空材料,其主要成分是Si3N4陶瓷和碳纤维复合而成。下列相关叙述不正确的是(  )。

A.它耐高温抗氧化
B.它比钢铁轻、硬,但质地较脆
C.它没有固定熔点
D.它是一种新型无机非金属材料
  • 题型:1
  • 难度:中等
  • 人气:630
11、

化学雕刻法是指用化学药品在一些固体材料表面腐蚀出图案的方法。对以下材料进行化学雕刻,所用药品错误的是(  )。

A.用氢氟酸雕刻玻璃
B.用浓硝酸雕刻水晶
C.用三氯化铁溶液雕刻铜板
D.用盐酸雕刻汉白玉
  • 题型:1
  • 难度:中等
  • 人气:1267
12、

开发新材料是现代科技发展的方向之一,下列有关材料的说法正确的是(  )。

A.氮化硅陶瓷是新型无机非金属材料
B.C60属于原子晶体,用于制造纳米材料
C.纤维素乙酸酯属于天然高分子材料
D.单晶硅常用于制造光导纤维
  • 题型:1
  • 难度:中等
  • 人气:1245
13、

矿泉水一般是由岩石风化后被地下水溶解其中的一部分生成的。此处所指的风化作用是指矿物与水和CO2作用的过程。例如,钾长石(KAlSi3O8)风化生成高岭土[Al2Si2O5(OH)4],此反应的离子方程式为2KAlSi3O8+2H2CO3+5H2O=2K+2HCO+4H2SiO3+Al2Si2O5(OH)4
(1)将上述复杂硅酸盐改写成氧化物形式:
①KAlSi3O8_____________________________________________________。
②Al2Si2O5(OH)4________________________________________________。
(2)这个反应能够发生的原因是_________________________________________。

  • 题型:1
  • 难度:中等
  • 人气:526
14、

晶体硅是一种重要的非金属材料,制备纯硅的主要步骤如下:
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅;
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3:Si+3HClSiHCl3+H2
③SiHCl3与过量H2在1 000~1 100 ℃反应制得纯硅已知SiHCl3能与H2O强烈反应,在空气中易自燃。
请回答下列问题:
(1)第①步制备粗硅的化学方程式为_____________________________________________。
(2)粗硅与HCl反应完全后,经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0 ℃)中含有少量SiCl4(沸点57.6 ℃)和HCl(沸点-84.7 ℃),提纯SiHCl3采用的方法为___________________________。
(3)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去):

①装置B中的试剂是________。装置C中的烧瓶需要加热,其目的是________________________________________________________________。
②反应一段时间后,装置D中观察到的现象是________,装置D不能采用普通玻璃管的原因是____________,装置D中发生反应的化学方程式为_____________________________________________________________。
③为保证制备纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度以及___________________________________________________________。

  • 题型:2
  • 难度:中等
  • 人气:1911
15、

获取知识和信息是现代人不可缺少的素质,信息产业的飞速发展离不开材料科学的推动。信息产业的核心材料是高纯度的硅,单晶硅可用来制作大规模集成电路、整流器等,硅纯度越高,大规模集成电路的性能就越好。高纯度的单晶硅生产方法有:
方法一:三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

方法二:用金属硅化物(Mg2Si)与盐酸作用制得硅烷,再热分解硅烷可得高纯硅。
根据上述信息回答以下问题:
(1)从方法一生产单晶硅的过程看,由焦炭还原得到的硅为何还要进一步处理?_________________________________________________________。
(2)写出方法二中生产高纯硅的两个化学方程式:
①____________________________________________________________;
②__________________________________________________________。
(3)写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学方程式:____________________________________。
(4)在方法一中,整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式:________________;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是_____________________________________________________。
(5)比较方法一和方法二,分析一下各自的优缺点____________________________________。

  • 题型:2
  • 难度:较难
  • 人气:1706