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  • 2021-12-03
  • 题量:12
  • 年级:高二
  • 类型:练习检测
  • 浏览:727

高二化学人教版选修二 3.1 无机非金属材料练习卷

1、

下列物品或设备:①水泥路;②门窗玻璃;③水晶镜片;④石英钟表;⑤玛瑙手镯;⑥硅太阳能电池;⑦光导纤维;⑧计算机芯片。所用材料含有SiO2的(  )。

A.①②③④⑤⑦ B.①②⑦⑧ C.⑥⑧ D.全部
  • 题型:1
  • 难度:中等
  • 人气:424
2、

汉代器物上的颜料“汉紫”至今尚没有发现其自然存在的记载。20世纪80年代科学家进行超导材料研究时,偶然发现其成分为紫色的硅酸铜钡(化学式:BaCuSi2Ox,Cu为+2价),下列有关“汉紫”的说法中不正确的是(  )。

A.用盐的形式表示:BaSiO3·CuSiO3
B.用氧化物形式表示:BaO·CuO·2SiO2
C.易溶于强酸、强碱
D.性质稳定,不易褪色
  • 题型:1
  • 难度:中等
  • 人气:2044
3、

地壳中含量第一和第二的两元素形成的化合物,不具有的性质是     (  )。

A.在一定条件下可与NaOH溶液反应
B.与碳在高温下反应可制取两元素中的一种单质
C.熔点很高,可用作耐火材料
D.是酸酐,与水反应生成相应的酸
  • 题型:1
  • 难度:中等
  • 人气:1613
4、

关于工业生产的叙述,错误的是  (  )。

A.制普通玻璃的主要原料是纯碱、石灰石、石英
B.氨是制作氮肥、硝酸、铵盐的重要原料
C.将二氧化硫催化氧化生成三氧化硫后,在吸收塔内用水吸收制得浓硫酸
D.制造普通水泥的主要原料是黏土、石灰石
  • 题型:1
  • 难度:中等
  • 人气:947
5、

在制玻璃的原料中,再加入下列物质后,可制得各种不同用途的玻璃:

A.氧化亚铜(Cu2O) B.氧化钴(Co2O3)
C.氧化铅(PbO) D.硼砂(Na2B4O7·10H2O)

(1)制造化学仪器的玻璃需加入的物质是______。
(2)制造光学仪器的玻璃需加入的物质是______。
(3)制造蓝色玻璃需加入的物质是____________。
(4)制造红色玻璃需加入的物质是____________。

  • 题型:2
  • 难度:较易
  • 人气:261
6、

普通玻璃中,Na2SiO3、CaSiO3、SiO2的物质的量之比是Na2SiO3∶CaSiO3∶SiO2=1∶1∶4。
(1)若以aNa2O·bCaO·mSiO2形式表示此玻璃的组成,则a∶b∶m=____________。
(2)若要制备1 000 kg上述玻璃,需要原料各多少千克?共可产生标准状况下的CO2气体多少升?

  • 题型:13
  • 难度:中等
  • 人气:644
7、

磷酸钙陶瓷也是一种新型陶瓷材料,它可以用于制成人造骨骼,这是利用这类材料的      (  )。

A.耐高温特性 B.电学特性
C.光学特性 D.生物功能
  • 题型:1
  • 难度:较易
  • 人气:633
8、

有关材料用途的说法中不正确的是  (  )。

A.氧化铝陶瓷可用作高压钠灯的灯管
B.氮化硅陶瓷可用作陶瓷发动机的材料
C.光导纤维可用作遥测遥控、照明等
D.氧化铝陶瓷可用作半导体材料
  • 题型:1
  • 难度:中等
  • 人气:615
9、

下列关于无机非金属材料的说法中正确的是   (  )。

A.传统无机非金属材料是指:光导纤维、玻璃、水泥、陶瓷等硅酸盐材料
B.新型无机非金属材料虽然克服了传统无机非金属材料的缺点,但强度比较差
C.高温结构材料具有耐高温、耐酸碱腐蚀、硬度大、耐磨损、密度小等优点
D.传统无机非金属材料和新型无机非金属材料的主要成分都是硅酸盐
  • 题型:1
  • 难度:中等
  • 人气:223
10、

氮化硅是一种高温陶瓷材料,它硬度大、熔点高,化学性质稳定,工业上普遍采用高纯硅与纯氮在1 300 ℃反应获得。
(1)根据性质,推测氮化硅陶瓷的用途是________。(填序号)

A.制汽轮机 B.制有色玻璃
C.制永久性模具 D.制造柴油机

(2)写出N的原子结构示意图__________,根据元素周期律知识,请写出氮化硅的化学式_________________。
(3)氮化硅陶瓷抗腐蚀能力强,除氢氟酸外,它不与其他无机酸反应,试推测该陶瓷被氢氟酸腐蚀的化学方程式___________________________________。
(4)现用四氯化硅与氮气在氢气气氛保护下,加强热发生反应,可得较高纯度的氮化硅,反应的化学方程式为_____________________________________。

  • 题型:2
  • 难度:中等
  • 人气:1586
11、

硅单质及其化合物应用很广。请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________。
②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式____________________;H2还原SiHCl3过程中若混有O2,可能引起的后果是____________________。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是   (  )。
A.单质硅化学性质稳定,但可以被强碱溶液腐蚀
B.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
C.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
D.光导纤维的主要成分是SiO2
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入盐酸,振荡。写出实验现象并给予解释(用化学方程式说明)_________________________ ____。
(4)在人体器官受到损伤时,需要使用一种新型无机非金属材料来植入体内,这种材料是________(填字母)。
A.高温结构陶瓷     B.生物陶瓷      C.导电陶瓷

  • 题型:2
  • 难度:中等
  • 人气:628
12、

单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用焦炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500 ℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下:
a.四氯化硅遇水极易水解;
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见下表:

物 质
SiCl4
BCl3
AlCl3
FeCl3
PCl5
沸点/℃
57.7
12.8

315

熔点/℃
-70.0
-107.2



升华温度/℃


180
300
162

 
请回答下列问题:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式  ____________________________。
(2)装置A中g管的作用是________;装置C中的试剂是________;装置E中的h瓶需要冷却的理由是________________________________________。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是________(填写元素符号)。
(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:5Fe2+MnO4+8H=5Fe3+Mn2+4H2O
滴定前是否要滴加指示剂?________(填“是”或“否”),请说明理由______________________。
②某同学称取5.000 g残留物,经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL试样溶液,用1.000×102 mol·L1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00 mL,则残留物中铁元素的质量分数是________。

  • 题型:30
  • 难度:较难
  • 人气:546