三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃＋5H₂O=2NO＋HNO₃＋9HF。下列有关该反应的说法正确的是(  　)

A．NF3分子中所有原子共平面	B．NF3在反应中既做氧化剂又做还原剂
C．生成0.2mol HNO3时转移0.2mol电子	D．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1