单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硫、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450-500°$C$），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下：
a.四氯化硅遇水极易水解；
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
c.有关物质的物理常数见下表：

物质	$SiC{l}_4$	$BC{l}_3$	$AlC{l}_3$	$FeC{l}_3$	$PC{l}_5$
沸点/℃	57.7	12.8	-	315	-
熔点/℃	-70.0	-107.2	-	-	-
升华温度/℃	-	-	180	300	162

请回答下列问题：
（1）写出装置$A$中发生反应的离子方程式 。
（2）装置$A$中$g$管的作用是 ；装置$C$中的试剂是；装置$E$中的$h$瓶需要冷却理由是 。
（3）装置$E$中$h$瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是（填写元素符号）。
（4）为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，是铁元素还原成$F{e}^{2+}$，再用$KMn{O}_4$标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：
$5F{e}^{2+}+Mn{O}_4^{-}+8H^{-}=5F{e}^{3+}+M{n}^{2+}+4H_{2}O$①滴定前是否要滴加指示剂？（填"是"或"否"），请说明理由。
②某同学称取5.000$g$残留物，预处理后在容量瓶中配制成100$ml$溶液，移取25.00$ml$，试样溶液，用1.000×10^-2$mol/L$^-1$KMn{O}_4$标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00$ml$,则残留物中铁元素的质量分数是 。