(16分)氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛。
在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H₂O₂的清除剂，产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH₃+3H₂O₂=     +6H₂O
工业中常用以下反应合成氨：N₂+3H₂2NH₃ △H＜0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中，分别加入浓度均为C(N₂)="0.100mol/L," C(H₂)=0.300mol/L进行反应时, N₂的浓度随时间的变化如下图①、②、③曲线所示。

（1）该反应平衡常数的数学表达式            ；实验②平衡时H₂的转化率为_______
（2）据图所示，②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出，并说明判断的理由。
②条件：_______     理由：                                     ________
③条件：_______     理由：                                     ________