三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
3 NF3 + 5 H2O =" 2" NO + HNO3 + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是
| A．NF3在潮湿的空气中泄漏时容易被发现 |
| B．NF3是氧化剂，H2O是还原剂 |
| C．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2:1 |
| D．若转移0.2mol电子时，生成NO气体4.48Ｌ |
三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
3 NF3 + 5 H2O =" 2" NO + HNO3 + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是
| A．NF3在潮湿的空气中泄漏时容易被发现 |
| B．NF3是氧化剂，H2O是还原剂 |
| C．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2:1 |
| D．若转移0.2mol电子时，生成NO气体4.48Ｌ |
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