(8分) 三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它能发生如下反应：3NF₃＋5H₂O===2NO＋HNO₃＋9HF。请回答下列问题：
⑴NF₃中氮元素的化合价为       ；
⑵NF₃的        大于HNO₃（填氧化性或还原性）；
⑶在上述反应中还原剂与氧化剂的物质的量之比为         ；
⑷若生成0.2 mol HNO₃，则转移的电子数为       ；