三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5 H2O 
2NO+HNO3+9 HF，下列有关该反应的说法正确的是
| A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂 | B．HF是还原产物 |
| C．还原剂和氧化剂的物质的量之比是2∶1 | D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体 |
三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5 H2O 2NO+HNO3+9 HF，下列有关该反应的说法正确的是
| A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂 | B．HF是还原产物 |
| C．还原剂和氧化剂的物质的量之比是2∶1 | D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体 |
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