10分）电子工业中清洗硅片上的SiO₂（s）的反应是
SiO₂(s)+4HF(g) ==SiF₄(g)+2H₂O(g) △H(298.15K)=-94.0kJ·mol^-1  △S(298.15K)=-75.8J·mol^-1 ·K^-1 设△H和△S不随温度而变，试求此反应自发进行的温度条件。