三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。下列有关该反应的说法正确的是
| A．NF3分子中所有原子共平面 |
| B．NF3在反应中既做氧化剂又做还原剂 |
| C．生成0.2mol HNO3时转移0.2mol电子 |
| D．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1 |
三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。下列有关该反应的说法正确的是
| A．NF3分子中所有原子共平面 |
| B．NF3在反应中既做氧化剂又做还原剂 |
| C．生成0.2mol HNO3时转移0.2mol电子 |
| D．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1 |
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