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  • 科目:化学
  • 题型:选择题
  • 难度:中等
  • 人气:66

高纯度的单晶硅是制做电子集成电路的基础材料。工业上制备高纯硅的化学反应原理为:

①SiO2+2C 高温 ¯ Si+2CO↑②Si+3HCl 250 ¯ HSiCl3+H2③HSiCl3+H2 高温 ¯ Si+3X

反应①制得粗硅,通过反应②③进一步得到高纯硅;三氯硅烷(HSiCl3)的沸点是 31.8℃.下列有关说法不正确的是(  )

A.反应③中X 的化学式为 HCl

B.三氯硅烷由氢、硅、氯三种元素组成

C.三氯硅烷中硅、氯元素的质量比为 1:3

D.反应②③实现了硅元素的富集,将粗硅转化为高纯硅

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高纯度的单晶硅是制做电子集成电路的基础材料。工业上制备高纯硅