中国芯片蚀刻技术国际领先。 $N{F}_3$进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体，在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观示意图如下，下列说法正确的是（　　）

A．	上述四种物质均由分子构成
B．	反应前后各元素的化合价均不变
C．	空气中物质丁的质量分数为78%
D．	反应生成的丙和丁微粒数之比为 $3:2$