2012年鲁科版高中化学选修4 2.1化学反应的方向卷练习
下面是生活中的几个自发过程,你认为其中能用熵判据解释的是( )。
A.自然界中水由高处往低处流 |
B.0℃时水变为冰 |
C.墨水滴到水中会扩散到整个水体 |
D.铁器暴露在潮湿空气中会生锈并放出热量 |
如果一个反应△H-T△S值为零,则此反应( )。
A.能自发进行 | B.是放热反应 |
C.不进行 | D.处于平衡状态 |
下列几个过程中,属于熵减的变化是( )。
A.干冰的升华 |
B.NaCl溶于水 |
C.NH3(g)+HCl(g)==NH4Cl(s) |
D.2Na+2H2O==2NaOH+H2↑ |
已知:Mg(s)+Cl2(g)==MgCl2(s) △H(298K) =-642 kJ·mol-1,试判断下列说法正确的是( )。
A.在任何温度下,正向反应是自发的 |
B.在任何温度下,正向反应是不自发的 |
C.高温下,正向反应是自发的;低温下,正向反应不自发 |
D.高温下,正向反应是不自发的;低温下,正向反应自发 |
以下自发过程可用能量判据来解释的是( )。
A.硝酸铵自发地溶于水 |
B.两种理想气体自发混合时热效应为0 |
C.(NH4)2CO3(s)==NH4HCO3(s)+NH3(g)△H="+74.9" kJ·mol-1 |
D.2H2(g)+O2(g)=2H2O(l)△H="-571.6" kJ·mol-1 |
下列关于自发过程的说法中正确的是( )。
A.自发过程的逆过程在此条件下是非自发的 |
B.自发变化一定能进行,非自发变化一定不能进行 |
C.自发反应一定能进行彻底 |
D.可以通过改变温度或加催化剂的办法使非自发反应转变为自发反应 |
常温下氯化铵自发溶解过程表示如下,NH4Cl(s)==NH4+(aq)+Cl-(aq) △H(298K)= 14.7kJ·mol-1,下列关于此过程的判断中正确的是( )。
A.溶解过程都是吸热的 |
B.此过程的熵变一定大于0 |
C.无法判断此过程的熵变大小 |
D.氯化铵的溶解过程在任何温度下都自发 |
已知碳酸钙的分解①CaCO3(s)==CaO(s)+CO2(g)仅在高温下自发;氯酸钾的分解②2KClO3(s)==2KCl(s)+3O2(g)在任何温度下都自发,下面有几组焓变数据,其中可能正确的是( )。
A.△H1=-178.32kJ·mol-1 △H2=-78.3kJ·mol-1 |
B.△H1=178.32kJ·mol-1 △H2=-78.3kJ·mol-1 |
C.△H1=-178.32kJ·mol-1 △H2=78.3kJ·mol-1 |
D.△H1=178.32kJ·mol-1 △H2=78.3kJ·mol-1 |
碳酸铵[(NH4)2CO3]在室温下就能自发地分解产生氨气,对其说法中正确的是( )。
A.碳酸铵分解是因为生成了易挥发的气体,使体系的熵增大 |
B.碳酸铵分解是因为外界给予了能量 |
C.碳酸铵分解是吸热反应,此反应不应该自发进行,必须借助外力才能进行 |
D.碳酸盐都不稳定,都能自发分解 |
已知石墨、金刚石燃烧的热化学方程式分别为C(石墨,s)+O2(g)==CO2(g) △H(298K)=-393.5kJ/mol和C(金刚石,s)+O2(g)==CO2(g) △H(298K)=-395.4kJ/mol,已知相同条件下石墨的熵值大。从理论上判断下列关于金刚石和石墨的相互转化的说法正确的是( )
A.石墨转化成金刚石是自发进行的过程 |
B.石墨转化成金刚石的反应必须借助外动力 |
C.石墨转化为金刚石仅在高温下自发 |
D.金刚石转化为石墨仅在高温下自发 |
12分)判断下列过程的熵变的正负(填“>0”或“<0”)
(1) 溶解少量蔗糖于水中, △S__________;
(2) 纯碳和氧气反应生成 CO(g), △S__________;
(3) 液态水蒸发变成水蒸气, △S____________;
(4) CaCO3(s)加热分解生成CaO(s)和CO2(g),△S____________。
已知反应N2O4(g)==2NO2(g) △H=57.24kJ·mol-1 △S=176J·mol-1·K-1则在298.15K时该反应自发向 进行(填“左”或“右”),在500K时反应自发向 进行。
由铁矿石生产金属铁有两种可能的途径:
①Fe2O3(s)+3∕2C(s)="=2Fe(s)+" 3∕2CO2(g)
△H=231.93kJ·mol-1 △S=276.32J·mol-1·K-1
②Fe2O3(s)+3H2(g)==2Fe(s)+3H2O(g)
△H=96.71kJ·mol-1 △S=138.79J·mol-1·K-1
(1)试判断这两个反应在高温还是低温下自发进行 。
(2)上述反应中的 (填序号)可以在较低温度下进行。
10分)电子工业中清洗硅片上的SiO2(s)的反应是
SiO2(s)+4HF(g) ==SiF4(g)+2H2O(g) △H(298.15K)=-94.0kJ·mol-1 △S(298.15K)=-75.8J·mol-1 ·K-1 设△H和△S不随温度而变,试求此反应自发进行的温度条件。