电子工业中清洗硅片上的SiO₂（s）的反应是：
SiO₂（s）＋4HF(g)＝Si F₄(g)＋2H₂O(g) ΔＨ(298.15K)＝－94.0 kJ·mol^－1 ΔＳ(298.15K)＝－75.8 J·mol^－1·K ^－1 ，设ΔＨ和ΔＳ不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度条件？